职位解读

ICP干法工艺工程师是武汉国科光领半导体科技有限公司在武汉江夏 佛祖岭发布的通用岗位,薪资范围10-20K。该岗位要求1-3年经验、本科学历,工作地点位于武汉江夏 佛祖岭。武汉国科光领半导体科技有限公司作为相关企业,其招聘节奏侧面反映该行业在武汉的人才需求热度。企业在该岗位的招聘活跃度,往往反映其在对应城市与行业的人才需求热度,可作为择业参考。岗位职责包括:1.负责光芯片核心ICP刻蚀工艺的开发与优化,包括但不限于波导、光栅等关键结构的刻蚀等; 2.主导ICP刻蚀设备的日常维护、保养与状态监控,确保设备稳定运行,并参与新设备的选型、安装与验收工作; 3.深入进行工艺数据分析与问题排查,快速解决生产中的工艺异常,持续提升工艺的稳定性与。任职要求为:1.本科及以上学历,微电子、物理、材料科学与工程、化学等相关专业背景; 2.具备2年以上半导体ICP刻蚀工艺实战经验,有光芯片(DFB、EML等)或化合物半导体刻蚀经验者优先; 3.精通ICP刻蚀原理。

ICP干法工艺工程师

武汉 · 江夏 佛祖岭 1-3年 本科 1次浏览 23小时前发布
10K-20K
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岗位职责

1.负责光芯片核心ICP刻蚀工艺的开发与优化,包括但不限于波导、光栅等关键结构的刻蚀等; 2.主导ICP刻蚀设备的日常维护、保养与状态监控,确保设备稳定运行,并参与新设备的选型、安装与验收工作; 3.深入进行工艺数据分析与问题排查,快速解决生产中的工艺异常,持续提升工艺的稳定性与良率; 4.协同其他部门完成新产品的工艺导入与验证,负责制定ICP工艺方案,并完成工艺可行性报告; 5.建立并完善ICP工艺规范,编写和更新工艺操作指导书、设备保养规程等技术文件。

职位要求

1.本科及以上学历,微电子、物理、材料科学与工程、化学等相关专业背景; 2.具备2年以上半导体ICP刻蚀工艺实战经验,有光芯片(DFB、EML等)或化合物半导体刻蚀经验者优先; 3.精通ICP刻蚀原理,熟悉光刻胶、金属等掩膜材料特性,并能进行工艺参数设计与优化; 4.熟练使用SEM、AFM、台阶仪等检测设备进行刻蚀形貌、速率、均匀性及选择比的表征与分析; 5.具备扎实的数据分析能力,能熟练使用JMP、Minitab或类似软件进行DOE实验设计及数据分析; 6.拥有强烈的责任心和严谨的工作态度,具备出色的学习能力、沟通能力及团队协作精神,能承受一定的工作压力。 备注:本公司岗位请勿重复投递,校招岗位和社招岗位也请分开投递,感谢理解!

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